這幾年隨著節(jié)能減排的大力推廣玻璃貼膜市場可謂是層出不窮產品更新，夏季來臨隔熱膜更是炙手可熱現(xiàn)在申膜國際就帶大家分析下２種市場上常見的隔熱膜的高端產品真空蒸發(fā)鍍膜隔熱膜另外一種是磁控濺射隔熱膜

1.真空蒸發(fā)鍍膜法就是在1.3×10~1.3×10-3Pa（10-4~10-5Torr）的真空中以電阻加熱鍍膜材料，使他在極短的時間內蒸發(fā)，蒸發(fā)了鍍膜材料分子沉積在基材表面上的形成鍍膜層。真空鍍膜室是使鍍膜材料蒸發(fā)的蒸發(fā)源，還有支承基材的工作架或卷繞裝置都是真空蒸發(fā)鍍膜設備的主要部分。鍍膜室的真空度，鍍膜材料的蒸發(fā)熟練的，蒸發(fā)距離和蒸發(fā)源的間距。以及基材表面狀態(tài)和溫度都是影響鍍膜質量的因素。

2.磁控濺射法是指電子在電場的作用下加速飛向機片的過程與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內，該區(qū)域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，早運動過程中不斷的與氬離子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低 ，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，最終沉積在基片上面。
   磁控濺射法與蒸發(fā)法相比，具有鍍膜層與基材層的結合力強，鍍膜層致密，均勻等優(yōu)點。真空蒸發(fā)鍍膜法需要使金屬或金屬化合物蒸發(fā)氣化，而加熱溫度又不能太高，否則氣相蒸鍍金屬燒壞被塑料基材，因此，真空鍍膜法一般適用于鋁等熔點較低的金屬源，是目前國內應用較為廣泛的真空鍍膜工藝。相反，噴濺鍍膜法利用高壓電場激發(fā)產生等離子體鍍膜物質，適用于幾乎所有高熔點金屬，合金、非金屬及金屬化合物鍍膜源，如鉻，鎢，鈦，銀，金等。而且它是一種強制性的沉積過程，采用該法獲得的鍍膜層與基材附著力遠高于真空蒸發(fā)鍍膜法，鍍膜層具有致密，均勻等優(yōu)點，加工成本也相對較高。利用磁控濺射技術所產生的太陽膜具有膜層致密、均勻，有良好的透光性和優(yōu)良的光譜選擇功能 ，使其能夠為車主帶來舒適、安全的環(huán)境。

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